• 基于STR的降解海洋遗骸人类识别的微创骨骼取样

  未知骨骼遗骸的身份识别是一项基本的人道主义和伦理义务，特别是在大规模死亡事件和移民相关灾难中，包括常规法医调查和失踪人员案件。DNA分析在这些情况下至关重要，但当前的取样方法通常依赖于侵入性程序，这会损害骨骼完整性，并与文化及伦理规范冲突。尽管法医DNA分析取

  来源：International Journal of Legal Medicine

  时间：2026-06-14

• 纳米粒子调控辣椒（Capsicum annuum）抗氧化途径及苯丙烷类途径基因表达的功能性见解

  在现代农业中，增强植物健康以提高作物品质仍是一项重大挑战。在本研究中，研究人员通过叶面施用的方式，用不同的纳米粒子（Ag、Cu、CuAg、CS、CSCu、CSAg、R-Ag、R-STS和AgN）处理辣椒（Capsicum annuum）植株，随后使其暴露于蓟马

  来源：Discover Plants

  时间：2026-06-14

• 烟煤与胺固化环氧树脂的共热解：对产物分布和反应动力学的协同效应

  刘书玉|徐明新|卢庆|徐浩成|江浩|李伟|董乐乐|卢强中国北京市102206，华北电力大学，新能源发电国家工程研究中心摘要共热解是一种极具前景的策略，可通过协同的热相互作用同时解决废弃环氧树脂的处理问题以及传统煤热解中焦油产率较低的问题，但目前其内在机制及产物特性仍需进一步研究。

  来源：Journal of Analytical and Applied Pyrolysis

  时间：2026-06-14

• 用于共享特征识别与时间序列预测的可解释机器学习

  袁林|张毛|李白华|孟庆刚 英国斯特林大学计算机科学与数学系，斯特林，FK9 4LA 摘要 当使用来自不同地点、场景或参与者的子数据集构建预测模型时，单一模型可能无法捕捉每个子数据集的独特特征。而为每个数据集单独创建模型则耗时且可能忽略共有的特征。本文提出了一种共同

  来源：Journal of Computational Science

  时间：2026-06-14

• 基于FPGA的低延迟混合CORDIC框架

  帕维尔·波切卡伊洛|埃娃·德勒曼|米凯拉·陶费尔|帕维尔·格普纳|列昂尼德·莫罗兹|耶日·克拉维茨|安杰伊·普日比利科沙林技术大学，电子与计算机科学学院，波兰科沙林，75-453摘要基于CORDIC的架构仍然是在资源受限的FPGA上实现基本超越函数的关键组成部分。然而，传统COR

  来源：Journal of Computational Science

  时间：2026-06-14

• 油虾Metapenaeus ensis的染色体级高连续性基因组组装与注释

  摘要长额对虾（Metapenaeus ensis）是一种生态适应性强且具有重要经济价值的对虾类物种。本研究通过整合牛津纳米孔技术（ONT）的长读长测序和Illumina的短读长测序数据，再结合Hi-C技术，首次完成了该物种的染色体级基因组组装。长读长数据对于解析复杂的基因组结构至

  来源：Scientific Data

  时间：2026-06-14

• 基于单倍型解析的杂交桉树Eucalyptus urophylla × E. grandis的端粒到端粒基因组组装

  摘要杂交种Eucalyptus urophylla × E. grandis兼具较强的抗逆性与快速的生长速度，在遗传改良和工业应用方面具有重要价值。然而，其高度杂合且复杂的基因组阻碍了高质量参考基因组的构建。在此，我们利用Illumina、PacBio HiFi、Oxford N

  来源：Scientific Data

  时间：2026-06-14

• 定量蛋白质组学揭示小鼠中组织特异性的VCP相互作用网络

  摘要含瓦洛辛蛋白（VCP）是一种保守的AAA ATP酶六聚体，它通过识别错误折叠的蛋白质并将其送入蛋白酶体进行降解，从而参与多种生物过程，包括ERAD机制。尽管人们已经较为清楚地了解了该蛋白与各种辅因子的相互作用，而且其功能异常与多系统蛋白病、肌萎缩侧索硬化症以及癌症等相关，但决

  来源：Scientific Data

  时间：2026-06-14

• 具有层状硅酸盐负载的ZnIn₂S₄/CeO₂异质结的可生物降解静电纺丝PLA膜，用于高效空气过滤和甲醛净化

  刘尚斌|杨梦娟|郭梦婷|梁佳琳|方媛|黄欣然|皮红红|李秀燕|王斌|张秀琴中国北京100029，北京时装技术学院材料设计工程系摘要室内空气处理需要这样的过滤介质：既能高效捕获细颗粒物，又能在持续流动条件下去除有害气体污染物，且不会带来过高的压力损失。静电纺丝纳米纤维膜在这方面具有

  来源：Separation and Purification Technology

  时间：2026-06-14

• 具有高表面活性的三聚表面活性剂能够实现出色的硅片CMP后清洗效果

  胡斌|刘建业|张欣|邱立明|龚敏|邢友梅|尹云健|方伟华|吴震|王国杰中国北京100083，北京科技大学材料科学与工程学院。摘要在先进的半导体制造过程中，硅晶圆清洗至关重要，尤其是化学机械抛光后的纳米颗粒污染物去除。铈氧化物（CeO2）纳米颗粒是化学机械抛光中最常用的研磨剂，但由

  来源：Separation and Purification Technology

  时间：2026-06-14

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