通过电化学方法精确测量钛合金上类金刚石碳涂层中的孔隙率穿透比

时间:2026年4月9日
来源:International Journal of Hygiene and Environmental Health

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纯 diamond-like amorphous carbon(a-C)涂层通过过滤阴极真空弧与磁控溅射制备,并评估其在不同电解液中的孔隙率及电化学性能。采用电化学阻抗谱法精确测定涂层孔隙率,优化电解液为0.1M H2SO4含100ppm NaF,浸泡12小时后孔隙率稳定在0.321%±0.03%,同时保持涂层化学键结构稳定。

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邓达|彭继华
华南理工大学材料与工程学院,广州,510640,中国

摘要

本文中,通过结合过滤后的阴极真空电弧沉积石墨和磁控溅射纯Ti靶材的方法,在Si晶圆和Ti6Al4V合金基底上制备了类金刚石非晶碳(a-C)涂层。石墨靶材的开启/关闭时间为300/600秒,电流为65安培,偏压为-120伏特。利用扫描电子显微镜和微拉曼光谱对样品的形态、微观结构和键合结构进行了表征。采用三电极电化学工作站和不同的电解质评估了电化学性能,其中a-C涂层的Ti6Al4V合金作为工作电极。通过一种新的电化学方法对a-C涂层的孔隙率进行了表征,该方法能够尽量减少对其他反应的干扰,从而准确评估孔隙率的大小和密度。对于a-C涂层的钛合金电极,优化后的电解质是含有100 ppm NaF的0.1 M溶液,在该溶液中,孔隙率的几何形状和大小以及a-C涂层的化学键合结构在浸泡12小时后仍保持稳定。在-0.5伏的恒定电位下,通过电位恒定电化学阻抗谱精确评估了孔隙率,新鲜沉积的a-C涂层的孔隙率为0.321% ± 0.03%,浸泡12小时的a-C涂层的孔隙率为0.325% ± 0.03%。

引言

许多金属部件在恶劣环境中工作,磨损和腐蚀是主要的失效模式。因此,选择和应用适当的表面处理技术(如涂层)对于提高这些金属部件的效率和使用寿命至关重要[1,2]。例如,质子交换膜(PEM)燃料电池中的双极板(BPPs)在高温酸性条件下长期工作[[3], [4], [5]],而碳涂层金属合金板可能是合适的候选材料。基于碳的涂层可以提高空调压缩机中钢制滑块、叶片等部件的耐磨性和耐腐蚀性,这些部件在冷却剂或润滑剂中工作[[6], [7], [8]]。大量研究表明,涂层中的穿透性孔洞/针孔缺陷(称为孔隙率,Th-por)是导致其过早失效的关键因素[[9], [10], [11], [12]]:介质通过这些孔洞渗透,首先腐蚀涂层/基底界面,然后导致涂层剥落并失去保护功能,加剧磨损和损坏。因此,表征和控制涂层中的Th-por密度变得至关重要。
目前用于表征涂层孔隙率的方法主要有三类:1)物理方法[[13], [14], [15]],如辐射(光)和显微成像分析、汞侵入孔隙仪以及气体吸附;2)化学方法[16],如基底金属的化学溶解和沉淀;3)电化学方法[17]。根据孔隙率的大小/形态稳定性和检测精度要求,可以选择合适的方法。最近,由于电化学方法速度快、效率高且成本低,基于Butler–Volmer方程[18]和电化学阻抗谱(EIS)分析[19],它们在测试和分析金属基底涂层孔隙率方面受到了广泛关注。电化学方法已应用于各种涂层,包括金属(合金)和非金属涂层,例如Cu合金上的TiN涂层[20]、CF170钢上的类金刚石非晶碳(DLC)涂层[21],以及使用PEO在Al5052合金上的陶瓷涂层[22]。然而,一些关于电化学孔隙率测试的结果似乎不明确。例如,使用电位动态极化(PDP)方法在AISI 4135钢基底上的TiN涂层获得了高达85%的孔隙率[23],而使用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备的304钢上的氢化DLC涂层获得了超过11%的孔隙率[24]。这些结果表明,孔隙率可能在测试过程中增加,或者涂层发生严重分层,从而导致结果不能准确反映涂层的初始孔隙率。
通常用于研究涂层孔隙率的电解质具有很强的腐蚀性,如NaCl溶液、硫酸、盐酸、硝酸等。在这些电解质中的浸泡/测试过程常常会导致涂层孔隙率膨胀或腐蚀,以及涂层剥落[[25], [26], [27], [28]]。然而,为了进行精确的电化学测量,保持涂层的完整性和孔隙率的几何形状/大小稳定性是基础。根据Weng等人的建议[29],使用PDP方法进行孔隙率评估时需要满足两个条件:1)忽略涂层在阳极极化测试过程中产生的极化电流;2)合理选择电解质,以确保涂层电极在测试过程中不会在电解质中发生钝化。因此,在评估非晶碳(a-C)涂层的孔隙率时,需要仔细考虑电化学系统,包括所使用的基底、电解质和合适的表征方法,以避免a-C本身发生的反应干扰。
由于钛合金具有良好的耐腐蚀性,因此它是沉积a-C涂层的合适基底;此外,涂有a-C的钛合金BPPs在PEM燃料电池的模拟酸溶液中表现出优异的电子导电性、耐腐蚀性和电接触性能[30,31]。此外,Ti与电解质(通常是电流)的电化学反应信号应足够强,以便能够被精确检测到。钛的氧化电位非常低,容易氧化;它在各种酸性、中性和碱性环境中会形成钝化膜[32,33]。钝化膜的组成和结构取决于钝化时间和介质,包括Ti₂O₃和TiO₂等[34,35]。在低浓度硫酸下,钝化电流(开路电位)会降低。此外,硫酸中的氟离子(F⁻)会促进钝化膜的破坏和溶解[36],形成可溶性的TiF₆⁻x团[37]。通过控制钝化和溶解活性,有望平衡腐蚀速率和孔隙率大小。
在本研究中,使用过滤后的阴极真空电弧技术在Ti6Al4V合金(TC4)上沉积了导电的a-C涂层,以制备TC4/a-C电极,从而减少真空电弧沉积过程中不可避免的液滴。首先,使用[Fe(CN)₆]³⁻/[Fe(CN)₆]⁴⁻氧化还原对研究了TC4/a-C电极的基本电化学性能。然后,选择了一种0.1 M H₂SO₄电解质,并研究了F⁻离子含量对a-C尺寸和化学键合的影响,以优化用于孔隙率测量的电解质。我们选择了EIS方法来表征a-C涂层中的孔隙率。本研究证明,如果电化学条件不满足PDP的要求,电子转移电阻法可以帮助表征孔隙率。这项研究无疑为精确表征DLC涂层中的孔隙率提供了实用工具,并有助于优化和控制涂层孔隙率,促进DLC涂层在燃料电池领域的开发和应用。

材料与样品制备

作为基底使用了市售的抛光TC4钛合金(宝鸡邦诺金属有限公司,中国)和Si单晶晶圆(100)(合肥科晶集团,中国)。TC4合金的成分(质量分数)为89.78% Ti、5.89% Al、4.10% V、0.11% O以及其他杂质。TC4试样的尺寸为φ20 × 5 mm,Si单晶晶圆的尺寸为50 × 10 × 0.63 mm。实验前,TC4和Si单晶晶圆在超声波清洗机中进行了清洗。

a-C涂层及其在含有K₃[Fe(CN)₆]电解质中的电化学性能

图1显示了样品的顶面和横截面SEM图像。在低倍率图像(图1a)中,顶面看起来很光滑,只观察到少数小于2微米的液滴和坑洞,这些液滴来自电弧阴极靶的火花。在放大图像(图b)中,表面呈现出平均尺寸约为170 nm ± 10 nm的 cauliflower状聚集体,这是DLC的典型形态。

结论

孔隙率是影响在恶劣介质中工作的部件(如燃料电池中的TC4/a-C金属双极板)耐腐蚀性和使用寿命的关键因素。预计可以准确测量孔隙率(Th-por)。电化学方法(包括PDP和EIS)操作简便;然而,测量值总是反映了强腐蚀后的孔隙率。从本研究可以得出以下结论:
  • 1.
  • CRediT作者贡献声明

    邓达:撰写——初稿、验证、正式分析、数据管理。彭继华:撰写——审阅与编辑、撰写——初稿、验证、监督、项目管理、方法论、资金获取、概念化。

    利益冲突声明

    作者声明他们没有已知的财务利益或个人关系可能影响本文报告的工作。

    致谢

    本研究得到了广州Grandtech有限公司(授权编号:2025440002002021和2024440002002824)的财务支持。

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