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为解决钙钛矿/硅叠层太阳能电池(TSCs)中自组装单层膜(SAMs)有序性和覆盖均匀性的关键难题,研究人员设计了一种不对称分子HTL201作为空穴选择层(HSL)。该分子通过优化锚定基团和间隔基结构,显著降低空间位阻并提升透明导电氧化物(TCO)复合层覆盖率,同时与钙钛矿薄膜形成强配位作用抑制界面非辐射复合。研究实现了2V级开路电压,最终基于硅异质结(SHJ)电池获得34.58%的认证效率,为叠层器件性能突破提供新策略。
在钙钛矿/硅叠层太阳能电池(perovskite/silicon TSCs)领域,实现纹理化硅基底上高度有序且均匀覆盖的自组装单层膜(SAMs)一直是提升效率的核心挑战。最新研究通过设计不对称分子HTL201——其分子结构以咔唑为核心,两侧分别连接锚定基团和间隔基——成功构建出高效空穴选择层(HSL)。与含氮键合膦酸基团的对称SAMs相比,HTL201在透明导电氧化物(TCO)复合层上展现出更小的空间位阻和更致密的分子排列。
这种分子与钙钛矿薄膜间存在强配位相互作用,有效抑制了埋底界面的非辐射复合。更引人注目的是,HTL201通过精准调控钙钛矿层的能级排列,将准费米能级分裂(QFLS)值显著提升,最终推动叠层电池开路电压逼近2V大关。基于硅异质结(SHJ)电池的认证效率达到34.58%,刷新了该类器件的性能纪录。该研究为突破叠层太阳能电池效率瓶颈提供了分子设计新范式。
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