NIR发光材料因其广泛的用途(如生物医学成像、无破坏性检测和夜视技术)而受到了广泛研究[[1], [2], [3], [4], [5]]。与传统的NIR光源(如卤素灯或钨卤素灯)相比,这些材料在发光效率、操作稳定性和结构灵活性方面具有显著优势。基于这些材料的pc-LED在智能光电子设备的集成应用中显示出巨大潜力[[6], [7], [8], [9]]。然而,设计和合成高性能NIR发光材料仍然是该领域的核心研究目标。
目前,Eu2+、Mn2+、Ni2+和Cr3+等激活离子已被广泛研究作为宽带NIR发射中心。然而,寻找能够为Eu2+和Mn2+离子提供足够强晶体场环境的合适宿主晶格,从而实现超过800 nm的发射,仍然是一个重大挑战。虽然已经报道了能够实现远红外发射的Eu2+或Mn2+掺杂荧光体,但其系统的开发仍面临诸多限制[[10], [11], [12], [13], [14], [15]]。Ni2+离子被认为是有前途的宽带NIR发射体,其发射带可以覆盖NIR-II窗口(1000–1600 nm),但它们的发射效率相对较低[[16], [17], [18]]。相比之下,Cr3+激活的荧光体表现出出色的宽带NIR发射特性。它们在蓝光区域具有显著的吸收能力,其发射波长可以在600至1400 nm的宽光谱范围内调节[[19], [20], [21], [22], [23]]。这种调节效果高度依赖于周围晶体场的强度。在不同强度的晶体场中,Cr3+离子(3d3)可以表现出不同的发射模式:在强晶体场下,禁戒的自旋2E→4A2跃迁会产生寿命较长的尖锐发射(毫秒级),而在弱晶体场下,允许的自旋4T2 → 4A2跃迁会产生寿命较短的宽发射带(微秒级)[24,25]。
近年来,在开发Cr3+掺杂的宽带NIR荧光体方面取得了显著进展。例如,在Mg7Ga2GeO12: 6 %Cr3+体系中,用Ba2+替代Mg2+使发射强度提高了约3.1倍[26]。通过部分Sc3+/In3+替代,在LiScGeO4: Cr3+中实现了35 nm的显著发射峰红移和330 nm的FWHM,有效减弱了Cr3+位置的晶体场强度[27]。此外,在LiGaGe2O6: Cr3+体系中,适当的Sc3+-Ga3+替代使发射峰在830–890 nm范围内可调,并使IQY提高了47.9%[28]。这些发现表明,阳离子替代是一种有效的手段,可以调整局部晶体场环境,从而显著优化Cr3+激活荧光体的宽带NIR发光性能。
在这项工作中,设计并合成了一种新型NIR发光荧光体YGdScSbO7: Cr3+。通过逐步用Ga3+替代宿主晶格中的Sc3+,该材料表现出优异的发光性能,量子效率(QY)达到了73.89%。这种晶格工程方法有效减少了高温下Cr3+离子多位点占据引起的不稳定性,确保了强而稳定的宽带NIR发射。此外,使用YGdScSbO7: Cr3+, Ga3+荧光体制成的NIR pc-LED在180 mA驱动电流下输出功率为8 mW,适用于光谱分析、夜视和无破坏性检测等应用。