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摘要含有局域U和晶位间V Hubbard修正的密度泛函理论(DFT+U+V)被广泛用于预测过渡金属和稀土化合物的性质,但其准确性在很大程度上取决于这些参数的获取方式。虽然这些参数可以通过实验方法确定,但第一性原理方法能提供更好的一致性,尽管它们的结果可能存在差异,且目前缺乏系统的
含有局域U和晶位间V Hubbard修正的密度泛函理论(DFT+U+V)被广泛用于预测过渡金属和稀土化合物的性质,但其准确性在很大程度上取决于这些参数的获取方式。虽然这些参数可以通过实验方法确定,但第一性原理方法能提供更好的一致性,尽管它们的结果可能存在差异,且目前缺乏系统的比较。在这里,我们比较了两种常用的方法:线性响应理论(LRT)和基于Hartree-Fock的赝杂化泛函形式主义,这两种方法分别应用于代表性的氧化物(MnO、NiO、CoO、FeO、BaTiO3、ZnO和ZrO2)。对于部分占据的过渡金属d态,两种方法得到的U值相当;但对于几乎空或完全填充的d壳层,它们的结果存在显著差异。对于O-2p态,LRT系统性地预测出较大的U值(约10eV),而赝杂化方法则给出依赖于系统的值。晶位间V的差异更大:LRT得到的值较小(<1eV),而赝杂化方法由于考虑了电荷重分布,得到的值较大(约3eV)。我们进一步表明,赝势的选择(它决定了Hubbard投影算符)会影响参数及其一致性。总体而言,尽管这两种方法之间存在某些相似之处,但它们基于不同的假设,从而导致对材料性质预测的结果存在差异。
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